氮化铝陶瓷加热盘

       半导体设备零件中的氮化铝陶瓷加热盘，是依托氮化铝（AlN）陶瓷材料优异特性制成的核心温控部件，广泛应用于半导体晶圆制造的薄膜沉积、光刻、离子注入等关键工序，承担精准控温与均匀传热的重要功能。

    AIN 氮化铝陶瓷加热盘是精密制造领域的关键温控部件，凭借氮化铝材料的卓越性能广泛应用于半导体、电子封装等高端场景。其核心优势在于超高导热性，导热率达 170-230W/(m・K)，远优于传统氧化铝陶瓷，可实现快速升温与均匀控温，温差精度控制在 &pl