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碳化硅陶瓷的应用有哪些?

文章出处:http://www.jundrotc.com/wenda/846.html人气:7时间:2023-08-07

    碳化硅陶瓷现如今是一种先进的陶瓷材料,他具有很多的性能优点,可圈可点的是他的导热系数,他的导热系数很好可以达到170W/m·k,他是半导体领域的经常会用到的陶瓷,他还具有化学性能稳定、热膨胀系数小、硬度大、密度小、耐磨性能好等等优良的特性,所以他被广泛的应用在各个领域

    在碳化硅半导体产业链中,主要有“碳化硅高纯粉料→衬底→外延片→功率器件→模块封装→终端应用”等环节。
虽然碳化硅作为陶瓷材料受到的关注度远不如其作为半导体材料,但其仍是一种应用极广的陶瓷材料,甚至已经成为航空航天、光刻机在内的半导体设备等高精尖领域必不可少材料。

    在高端光刻机中,涉及高效率、高精度、高稳定性的运动控制技术和驱动技术,对结构件的精度和结构材料的性能提出了极高的要求。碳化硅陶瓷具有极高的弹性模量、导热系数和较低的热膨胀系数,不易产生弯曲应力变形和热应变,并且具有极佳的可抛光性,可以通过机械加工至优良的镜面,因此采用碳化硅陶瓷作为光刻机用精密结构件材料具有极大的优势。在光刻机中碳化硅陶瓷主要用于制造E-chuck、Vacumm-chuck、Block、磁钢骨架水冷板、反射镜、导轨等部件。

    在刻蚀设备中,等离子体通过物理作用和化学反应会对设备器件表面造成严重腐蚀,一方面缩短部件的使用寿命,降低设备的使用性能,另一方面腐蚀过程中产生的反应产物会出现挥发和脱落的现象,在工艺腔内产生杂质颗粒,影响腔室的洁净度。因此,刻蚀机腔体和腔体部件材料的耐等离子体刻蚀性能变得至关重要。

    在刻蚀设备中,碳化硅被用于刻蚀机腔体和腔体部件、聚焦环、刻蚀环等关键部件。

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